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二氯二氢硅

二氯二氢硅

二氯二氢硅化学式SiH₂Cl₂,常温常压下无色有刺激性气味,密度3.48g/L,沸点8.2℃;极易溶于水并剧烈反应生成盐酸雾,易溶于有机溶剂,对普通钢材轻微腐蚀,需耐腐材质。极度易燃,性质活泼,兼具氧化还原性,高毒类。

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化学式

SiH₂Cl₂

cas

4109-96-0

纯度

5N

规格

40L

外观

无色有刺激性气味气体

沸点

8.2℃

核心应用领域

(一)半导体领域(电子级)

薄膜沉积与外延生长:核心用于半导体CVD工艺,制备硅薄膜、外延硅层,兼具低温分解、硅晶体生长速率高优势。99.999%级可满足高端芯片制程需求,实现国产替代。

半导体掺杂与刻蚀辅助:作为离子注入和掺杂原料,调节半导体电学性能;辅助精细刻蚀,提升制程精度。

(二)化工合成领域(工业级)

有机硅合成中间体:合成各类有机硅关键中间体,用于制备硅氧烷、硅烷偶联剂等,应用于橡胶、涂料、密封剂行业。

氯硅烷产品制备:用于合成其他高端氯硅烷,完善产业链,支撑电子化学品、光纤材料等高端领域。

(三)其他领域

科研与材料研发:用于硅基、半导体材料研发,探索合成机理;作为特殊反应试剂,助力精细化工创新。

太阳能电池制造:制备太阳能电池硅薄膜,提升光电转换效率,助力光伏产业升级。

光纤材料辅助:用于光纤预制棒制备,调节材料纯度与光学性能,提升传输质量。

 

安全规范与操作指南

(一)储存要求

容器与环境:采用高压不锈钢钢瓶,标注“二氯二氢硅”“易燃有毒”“禁水”“禁明火”标识,按电子特气标准检验,周期2年/次;储存于≤20℃干燥密闭库房,配强制干燥排风(≥30次/小时),远离水、火种、易燃物及氧化剂(≥100米),安装泄漏报警仪(按最低可检测浓度设阈值)。

管理要求:钢瓶防倾倒固定,余压≥0.3MPa(防空气和水分进入);建纯度-批次台账,分级分区存放,禁与水、氧化剂、酸碱性物质混放。

(二)运输规范

UN分类:2.3类有毒+2.1类易燃气体(UN1958,包装I类),贴“易燃有毒”“禁水”“腐蚀”标识,配备防毒面具、急救箱及氮气应急包;

运输要求:①公路用防爆防潮货车(干燥防静电),排气管阻火,车速≤30km/h,避高温、雨雪及潮湿路段;②铁路/航空需纯度报告,单批≤3瓶,单独防爆干燥舱运输,禁停留居民区、水源地。

(三)操作与应急

操作禁忌:持证专项操作,穿防腐蚀防静电工作服、全程戴正压式空气呼吸器;开阀≤0.1圈用专用不锈钢减压器;干燥无缝不锈钢管线转移(漏率≤10⁻⁹Pa·m³/s,隔绝水分);密闭空间3人以上监护,每3分钟检测浓度。

泄漏与急救:

泄漏处理:消除点火源,人员上风向撤离(小量隔离50米、大量200米);应急人员穿全防防护服、戴正压呼吸器,设备接地,用氮气吹扫泄漏源,禁用水/泡沫,封堵后碱液(非水溶液)中和,禁入下水道、水源地。

应急处置:①吸入中毒:移至干燥新鲜空气处,吸氧立即送医;②皮肤/眼部接触:先干燥惰性气体吹扫,再无水乙醇擦拭,最后清水冲洗≥20分钟就医;③禁用水直接接触泄漏物及受害者。

(四)废弃处置

余气经惰性气体稀释后高温燃烧,再碱液(非水溶液)吸收达标排放;钢瓶氮气多次置换(残留<0.01%)、真空干燥后专业回收。